Neuer General Manager bei AS+P in Shanghai

Die Geschäftsführung der AS+P Tochtergesellschaft in Shanghai benennt einen neuen Geschäftsleiter aus den eigenen Reihen
Zum 1. Juni 2018 beginnt Antoney Zhang (张岳) seine neue Position als General Manager der AS+P Architects Consulting (Shanghai) Co., Ltd., einer 100%igen Tochtergesellschaft der AS+P Albert Speer + Partner GmbH in Frankfurt. Er ist seit über 12 Jahren Mitglied im Shanghaier Büro - somit ein alter Bekannter - und tritt in die Fußstapfen von Johannes Dell, der diesen Posten gerne an seinen jüngeren Kollegen übergibt.
Gemeinsam mit Johannes Dell, Executive Director der chinesischen Niederlassung sowie Partner und Mitglied der Geschäftsleitung bei AS+P Albert Speer + Partner GmbH in Frankfurt, wird Antoney Zhang alle AS+P China Projekte mit Fokus auf nachhaltige Stadtentwicklung und innovative Architektur verantworten und das boomende Geschäft der chinesischen AS+P Tochter weiter vorantreiben.
Antoney Zhang, 1977 in Shanghai geboren, hat an der Ruhr-Universität Bochum den Masterstudiengang Bauingenieurwesen absolviert und danach seinen Master of Business Administration (MBA) erworben. Antoney arbeitet seit 2006 in unserem Shanghaier Büro und bekleidete aufgrund seiner umfassenden Management-Erfahrung seit drei Jahren erfolgreich die Position des Operation Director für die AS+P Architects Consulting (Shanghai) Co., Ltd.
AS+P gründete 2007 - zehn Jahre nach dem Einstieg in den chinesischen Planungsmarkt - die Tochtergesellschaft AS+P Architects Consulting (Shanghai) Co., Ltd. um sich dauerhaft vor Ort zu positionieren. Diese Entscheidung erwies sich als Erfolg. Heute reichen die Projekte in China von Regionalplanungen über den Städtebau bis hin zu Architekturprojekten und folgen sowohl in funktionaler als auch gestalterischer Hinsicht dem Konzept, einen Beitrag zur nachhaltigen Urbanisierung in China zu leisten.
Wir gratulieren unserem guten Freund und langjährigen Kollegen Antoney zu seiner neuen Position freuen uns auf eine weiterhin erfolgreiche Zusammenarbeit.